珩磨平臺(tái)網(wǎng)紋的考量的主要標(biāo)準(zhǔn)有下面幾項(xiàng)組成：

1）Ra表示的是輪廓算術(shù)平均偏差：在取樣長(zhǎng)度內(nèi)，輪廓偏距絕對(duì)值的算術(shù)平均值 。影響Ra數(shù)值大小的主要因素有精珩壓力、精珩時(shí)間、精珩砂條粒度。精珩壓力小珩磨時(shí)間長(zhǎng)，砂條粒度細(xì)，平臺(tái)越光、越寬，Ra越小。另外的因素是粗珩壓力，粗珩砂條粒度、密度、硬度等。

2）Rz表示的是微觀不平度：在一個(gè)取樣長(zhǎng)度內(nèi)，最大輪廓峰高與最大輪廓谷深之和。影響Rz數(shù)值大小的主要因素有粗珩壓力。粗珩砂條粒度、密度、硬度等參數(shù)，粗珩壓力大，砂條粒度粗，Rz大。平臺(tái)珩磨去除余量多，Rz就會(huì)越小。

3）Mr1、Rpk影響因素是精珩，當(dāng)精珩壓力小，時(shí)間長(zhǎng)，砂粒細(xì)，則Mr1、Rpk小。

4）Rk數(shù)值的影響因素是粗珩，粗珩砂條粒度細(xì)，密度小硬度軟，脫粒快則Rk小，精珩對(duì)Rk有較小的影響。

5）Mr2、Rvk影響因素是粗珩，當(dāng)粗珩壓力大，粒度粗，硬度軟則Mr2適中，Rvk大。